Activation energies in chemical vapour deposition kinetics of SiO2 films using TEOS chemistry
Activation energies in chemical vapour deposition kinetics of SiO2 films using TEOS chemistry
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使用 TEOS 化学进行 SiO2 薄膜化学气相沉积动力学的活化能
DOI：
10.1016/0040-6090(90)90140-9
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发表时间：
1990
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
I. Kleps
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Pavelescu;I. Kleps
