ピエゾエレクトロニック磁気トンネル接合の圧力印加構造の評価
ピエゾエレクトロニック磁気トンネル接合の圧力印加構造の評価
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压电磁隧道结施压结构的评估
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中川 茂樹.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
浦下 宗輝;北川 涼太;小野澤 隼;スタットラー 嘉也;春本 高志;史 蹟;中村 吉男;高村 陽太;中川 茂樹.
