T.Yokosuka et al.: "Development of New Tight-Binding Molecular Dynamics Program to simulate Chemical-Mechanical Polishing Processes"Japanese Journal of Applied Physics. 印刷中.
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T. Yokosuka 等人：“开发新的紧束缚分子动力学程序来模拟化学机械抛光过程”，日本应用物理学杂志正在出版。
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