Modeling of the relationship between implantation parameters and implantation dose during plasma immersion ion implantation
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DOI：
10.1016/s0375-9601(00)00673-3
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发表时间：
2000-11
影响因子：
2.6
通讯作者：
X. Tian;P. Chu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
X. Tian;P. Chu
