大気圧窒素プラズマ中レーザー照射による4H-SiC中への窒素ドーピング
大気圧窒素プラズマ中レーザー照射による4H-SiC中への窒素ドーピング
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常压氮等离子体激光照射4H-SiC氮掺杂
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小島遼太，池上浩，渡邊陽介，池田晃裕，中村大輔，浅野種正，岡田龍雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Ikeda;D. Mrui;H. Ikenoue;T. Asano;丸井大地，池田晃裕，池上浩，浅野種正;小島遼太，池上浩，渡邊陽介，池田晃裕，中村大輔，浅野種正，岡田龍雄
