Kiyokazu Yasuda, Toshihiro Iwasaki, Syuji Nakata: "Surface Modification of Si Wafer by Scanning Tunneling Microscope" Japanese Journal of Applied Physics.
Kiyokazu Yasuda, Toshihiro Iwasaki, Syuji Nakata: "Surface Modification of Si Wafer by Scanning Tunneling Microscope" Japanese Journal of Applied Physics.
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Kiyokazu Yasuda、Toshihiro Iwasaki、Syuji Nakata：“通过扫描隧道显微镜对硅晶片进行表面改性”日本应用物理学杂志。
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