Substrate Developments for the Chemical Vapor Deposition Synthesis of Graphene
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DOI：
10.1002/admi.201902024
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发表时间：
2020
影响因子：
5.4
通讯作者：
Mark H. Rümmeli
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Qitao Shi;Klaudia Tokarska;Huy Quang Ta;Xiaoqin Yang;Yu Liu;Sami Ullah;Lijun Liu;Barbara Trzebicka;Alicja Bachmatiuk;Jingyu Sun;Lei Fu;Zhongfan Liu;Mark H. Rümmeli
