A general method to construct dislocations in atomistic simulations

A general method to construct dislocations in atomistic simulations
复制标题

原子模拟中构造位错的通用方法

DOI:
10.1088/1361-651x/ab021a
复制
发表时间:
2019-03
影响因子:
1.8
通讯作者:
Zhang Wen Zheng
Zhang Wen Zheng
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
Zhang Jin Yu;Zhang Wen Zheng

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

位错的原子模拟的一个重要方面是初始位错组态的构造。然而,有限的配置可以构建由以前的方法,阻碍了一般的位错组态在真实的材料的模拟。在本文中,我们开发了一种简单而通用的方法来构造具有任意形状的位错,由用户指定,实现在原子水平上的沃尔泰拉过程。它的应用程序的位错螺旋线,部分位错,多位错配置,并在不完美的晶体中的位错的例子,显示本方法的能力和鲁棒性。
An important aspect of atomistic simulations of dislocations is the construction of the initial dislocation configurations. However, limited configurations can be constructed by previous methods, impeding the simulations of a general dislocation configuration in real materials. In this paper, we develop a simple and general method for constructing dislocations with arbitrary shapes specified by the users, realising the Volterra process at the atomic level. Examples of its applications to a dislocation helix, the partial dislocations, the multi-dislocation configurations, and the dislocations in the imperfect crystal are presented, showing the capacity and robustness of the present method.
DOI: 10.1080/14786444108561389
发表时间: 1951-11
期刊: Philosophical Magazine Series 1
影响因子: --
作者:
W. Lomer
通讯作者: W. Lomer
DOI: 10.1103/physrevb.82.054103
发表时间: 2010-08
期刊: Physical Review B
影响因子: 3.7
作者:
R. Veiga;M. Perez;C. Becquart;C. Domain;S. Garruchet
通讯作者: R. Veiga;M. Perez;C. Becquart;C. Domain;S. Garruchet
DOI: 10.1016/s0921-5093(00)01716-0
发表时间: 2001-07
影响因子: 6.4
作者:
Y. Qi;A. Strachan;T. Çagin;W. Goddard
通讯作者: Y. Qi;A. Strachan;T. Çagin;W. Goddard
DOI: 10.1038/nature23472
发表时间: 2016-04
期刊: --
影响因子: --
作者:
L. Zepeda-Ruiz;A. Stukowski;T. Oppelstrup;V. Bulatov
通讯作者: L. Zepeda-Ruiz;A. Stukowski;T. Oppelstrup;V. Bulatov
DOI: 10.1080/14786435808244398
发表时间: 1958-02
影响因子: 1.6
作者:
D. Kuhlmann-wilsdorf
通讯作者: D. Kuhlmann-wilsdorf