K.Osada.: "Effect of Stress in the Peposited Silicon Nitride Films on Boron Diffusion in Silicon" J.Electrochem.Soe.Vol.142. 202-206 (1995)
K.Osada.: "Effect of Stress in the Peposited Silicon Nitride Films on Boron Diffusion in Silicon" J.Electrochem.Soe.Vol.142. 202-206 (1995)
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K.Osada.：“沉积氮化硅薄膜中的应力对硅中硼扩散的影响”J.Electrochem.Soe.Vol.142。
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