Preferred Orientation of Calcium Phosphate Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
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复制标题
射频磁控溅射制备磷酸钙薄膜的优选取向
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Ueda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Narushima;K.Ueda;成島尚之;K.Ueda;K.Ueda;T.Narushima;T.Katsube;T.Narushima;K.Ueda
