Plasma-Enhanced Reactivity- Controlled Sputter Deposition Process for Low-Temperature Formation of Semiconductor Films
Plasma-Enhanced Reactivity- Controlled Sputter Deposition Process for Low-Temperature Formation of Semiconductor Films
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用于低温形成半导体薄膜的等离子体增强反应性控制溅射沉积工艺
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Soichiro Osaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuichi Setsuhara;Kosuke Takenaka;Hirofumi Ohtani;Atsuki Kanai;Soichiro Osaki
