Nanometre scale overlay and stitch metrology using an optical microscope
Nanometre scale overlay and stitch metrology using an optical microscope
复制标题
使用光学显微镜进行纳米级重叠和缝合计量
DOI：
10.1016/j.mee.2006.01.022
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发表时间：
2006
影响因子：
2.3
通讯作者：
S. Thoms
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Macintyre;S. Thoms
