熱処理によるAl/Ge(111)上の極薄Ge層形成
熱処理によるAl/Ge(111)上の極薄Ge層形成
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热处理在Al/Ge(111)上形成超薄Ge层
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮﨑 誠一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小林 征登;大田 晃生;黒澤 昌志;洗平 昌晃;田岡 紀之;池田 弥央;牧原 克典;宮﨑 誠一
