Silicon Nitride Film Formations Using Magnetic-Mirror Confined PlasmaSystem Developed for Minimal Fab System
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使用专为最小晶圆厂系统开发的磁镜受限等离子体系统形成氮化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shigetoshi Sugawa and Shiro Hara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tetsuya Goto;Thai Quoc Cuong;Seiji Kobayashi;Yuki Yabuta;Shigetoshi Sugawa and Shiro Hara
