Frequency dependence of AC chemical etching of platinum iridium wire
Frequency dependence of AC chemical etching of platinum iridium wire
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铂铱丝交流化学蚀刻的频率依赖性
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomohide TAKAMI and Yoshiki AOYAMA
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高見知秀;青山宜樹;Tomohide TAKAMI and Yoshiki AOYAMA
