Ar/F_2 気相エッチングによる極微小径Si マイクロ流路の形成
Ar/F_2 気相エッチングによる極微小径Si マイクロ流路の形成
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Ar/F_2气相刻蚀形成极小直径Si微通道
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松谷晃宏,髙田綾子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yayoi Yoshioka (Ed.: Shishir Sinha & N.K. Navani;Exec. Ed.: J.N. Govil);中原広道;松谷晃宏,髙田綾子
