T.Oda et al.,: "Low Temperature Atmospheric Pressure Discharge Plasma Processing for Volatile Otganic Compounds," Journal of Electrostatics,. 35. 93-101 (1995)

T.Oda et al.,: "Low Temperature Atmospheric Pressure Discharge Plasma Processing for Volatile Otganic Compounds," Journal of Electrostatics,. 35. 93-101 (1995)
复制标题

T.Oda 等人:“挥发性有机化合物的低温大气压放电等离子体处理”,静电学杂志。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献