中島,田中,山下: "A theoretical study of aluminium chemical vapour deposition using dimethylaluminium hydride"Surface Science. 444. 99-112 (2000)
中島,田中,山下: "A theoretical study of aluminium chemical vapour deposition using dimethylaluminium hydride"Surface Science. 444. 99-112 (2000)
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Nakajima、Tanaka、Yamashita：“使用二甲基氢化铝进行铝化学气相沉积的理论研究”表面科学 444. 99-112 (2000)。
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