大気圧・超高周波プラズマの生成と Si およびその化合物の低温・高速成膜
大気圧・超高周波プラズマの生成と Si およびその化合物の低温・高速成膜
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常压/超高频等离子体产生及Si及其化合物的低温/高速沉积
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
垣内弘章
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉清まりえ;山田佳奈;生井飛鳥;大越慎一;T. Kimura;吉田松生;熊田智行;垣内弘章
