S.Takahashi,M.Ohashi,S.Fukatsu,Y.Shiraki,and R.Ito: "A Novel Vacuum Lithography with SN_2 Resist by Focused Ion Beam Exposure and Dry Etching Development" A.P.C.T.(Advanced Processing and Characterization Technologies)proceedings. (1991)
S.Takahashi,M.Ohashi,S.Fukatsu,Y.Shiraki,and R.Ito: "A Novel Vacuum Lithography with SN_2 Resist by Focused Ion Beam Exposure and Dry Etching Development" A.P.C.T.(Advanced Processing and Characterization Technologies)proceedings. (1991)
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S.Takahashi、M.Ohashi、S.Fukatsu、Y.Shiraki 和 R.Ito：“通过聚焦离子束曝光和干法蚀刻开发采用 SN_2 抗蚀剂的新型真空光刻”A.P.C.T.（先进加工和表征技术）论文集。
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