A unique ECR broad beam source for thin film processing
A unique ECR broad beam source for thin film processing
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用于薄膜加工的独特 ECR 宽光束源
DOI：
10.1016/s0257-8972(01)01144-6
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
B. Ocker
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Zeuner;F. Scholze;H. Neumann;T. Chassé;G. Otto;D. Roth;A. Hellmich;B. Ocker
