Application of Synchrotron X-ray Diffraction Methods to Gate S tacks of Advanced MOS devices
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复制标题
同步加速器X射线衍射方法在先进MOS器件栅极堆栈中的应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Shimura;Atsushi Ogura;他
