Study on nano thickness inspection for residual layer of nanoimprint lithography using near-field optical enhancement of metal tip
Study on nano thickness inspection for residual layer of nanoimprint lithography using near-field optical enhancement of metal tip
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金属尖端近场光学增强纳米压印光刻残留层纳米厚度检测研究
DOI：
10.1016/j.cirp.2013.03.020
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Takamasu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Takahashi;Y. Ikeda;K. Takamasu
