High aspect ratio pattern collapse of polymeric UV-nano-imprint molds due to cleaning
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DOI：
10.1016/j.mee.2013.02.065
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发表时间：
2013-10
影响因子：
2.3
通讯作者：
A. Finn;B. Lu;R. Kirchner;X. Thrun;K. Richter;W. Fischer
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Finn;B. Lu;R. Kirchner;X. Thrun;K. Richter;W. Fischer
