ブロックコーポリマーを用いた自己組織化ナノドットのパターン転写によって直径10nm超高密度のSiナノドット列の形成
ブロックコーポリマーを用いた自己組織化ナノドットのパターン転写によって直径10nm超高密度のSiナノドット列の形成
复制标题
利用嵌段共聚物自组装纳米点图案转移形成直径为10 nm的超密硅纳米点阵列
DOI：
--
复制
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Huda
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Miftakhul Huda;Sumio Hosaka;Hiroshi Sakurai;M. Huda
