In-Band Spurious Attenuation in LTE-Class RFIC Chip using a Soft Magnetic Thin Film
In-Band Spurious Attenuation in LTE-Class RFIC Chip using a Soft Magnetic Thin Film
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使用软磁薄膜的 LTE 级 RFIC 芯片中的带内杂散衰减
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masahiro Yamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sho Muroga;Yasushi Endo;Tetsuo Ito;Satoshi Tanaka;Motoki Murakami;Kazuaki Hori;Satoru Takahashi;Azuma Naoya;Tetsuya Makita;Satoshi Imai;Makoto Nagata;Masahiro Yamaguchi
