熱処理によるAlおよびAg/Ge(111)上の極薄Ge形成と層厚制御
熱処理によるAlおよびAg/Ge(111)上の極薄Ge形成と層厚制御
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Al 和 Ag/Ge(111) 热处理超薄 Ge 形成及层厚控制
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮﨑 誠一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大田 晃生;松下 圭吾;田岡 紀之;牧原 克典;宮﨑 誠一
