R.Nakamura,Y.Ohki,K.Nagasawa Y.Hama: "Characterization of C10x radicals in vacuum-ultraviolet-irradiated high-purity silica glass" Physical Review B. 46. 8073-8079 (1992)
R.Nakamura,Y.Ohki,K.Nagasawa Y.Hama: "Characterization of C10x radicals in vacuum-ultraviolet-irradiated high-purity silica glass" Physical Review B. 46. 8073-8079 (1992)
复制标题
R.Nakamura,Y.Ohki,K.Nagasawa Y.Hama:“真空紫外线照射高纯石英玻璃中 C10x 自由基的表征”物理评论 B. 46. 8073-8079 (1992)
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: