H.SEKINE, M.OHTA, J.SHIBATA, T.KIMURA: "A BASIC STUDY ON CMP MECHANISM AND A TRIAL FOR CMP"Advances in Abrasive Technology. IV. 271-278 (2001)

H.SEKINE, M.OHTA, J.SHIBATA, T.KIMURA: "A BASIC STUDY ON CMP MECHANISM AND A TRIAL FOR CMP"Advances in Abrasive Technology. IV. 271-278 (2001)
复制标题

H.SEKINE、M.OHTA、J.SHIBATA、T.KIMURA:“CMP 机制的基础研究和 CMP 的试验”磨料技术的进展。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献