Nanovoid Formation through the Annealing of Amorphous Al_2O_3 and WO_3 Films
Nanovoid Formation through the Annealing of Amorphous Al_2O_3 and WO_3 Films
复制标题
非晶Al_2O_3和WO_3薄膜退火形成纳米空隙
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Nakajima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R.Nakamura;T.Shudo;A.Hirata;M.Ishimaru;H.Nakajima
