K.Fujita: "Involvement of the topmost Ge Layer in the Ge surface seregation during Si/Ge heterostructure formation" Appl.Phys.Lett.59. 2240-2241 (1991)
K.Fujita: "Involvement of the topmost Ge Layer in the Ge surface seregation during Si/Ge heterostructure formation" Appl.Phys.Lett.59. 2240-2241 (1991)
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K.Fujita：“Si/Ge 异质结构形成过程中最顶层 Ge 层参与 Ge 表面偏析”Appl.Phys.Lett.59。
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