Area-selective plasma-enhanced atomic layer etching (PE-ALE) of silicon dioxide using a silane coupling agent
Area-selective plasma-enhanced atomic layer etching (PE-ALE) of silicon dioxide using a silane coupling agent
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使用硅烷偶联剂对二氧化硅进行区域选择性等离子体增强原子层蚀刻 (PE-ALE)
DOI：
10.1116/6.0002044
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hori Masaru
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Osonio Airah P.;Tsutsumi Takayoshi;Oda Yoshinari;Mukherjee Bablu;Borude Ranjit;Kobayashi Nobuyoshi;Hori Masaru
