A.Sano, K.Ono, K.Takahashi, Y.Setsuhara: "Profile Simulation Model for Nanometer-Scale Control of Critical Dimensions and Etched Profiles"Proceedings of the 2nd International Symposium on Dry Process, DPS-2002, Tokyo, Japan, October 10-11, 2002. 177-182 (
A.Sano, K.Ono, K.Takahashi, Y.Setsuhara: "Profile Simulation Model for Nanometer-Scale Control of Critical Dimensions and Etched Profiles"Proceedings of the 2nd International Symposium on Dry Process, DPS-2002, Tokyo, Japan, October 10-11, 2002. 177-182 (
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A.Sano、K.Ono、K.Takahashi、Y.Setsuhara：“关键尺寸和蚀刻轮廓的纳米级控制的轮廓模拟模型”第二届国际干法研讨会论文集，DPS-2002，日本东京，
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