T.Matsuura, J.Murota, K.Suzue, Y.Sawada, and T.Ohmi: "Self-Limited Atomic-Layr-Etching of Si" Abstract of the 18th Technical Meeting, Atomic Order Processing, Japan Society for Promotion of Science. 32-39 (1994)
T.Matsuura, J.Murota, K.Suzue, Y.Sawada, and T.Ohmi: "Self-Limited Atomic-Layr-Etching of Si" Abstract of the 18th Technical Meeting, Atomic Order Processing, Japan Society for Promotion of Science. 32-39 (1994)
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T.Matsuura、J.Murota、K.Suzue、Y.Sawada 和 T.Ohmi：“Si 的自限原子层蚀刻”第 18 届技术会议摘要，原子序处理，日本科学促进会
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