Sparse nonlinear inverse imaging for shot count reduction in inverse lithography
Sparse nonlinear inverse imaging for shot count reduction in inverse lithography
复制标题
稀疏非线性逆成像可减少逆光刻中的发射次数
DOI：
10.1364/oe.23.026919
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
3.8
通讯作者：
Edmund Y. Lam
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Wu Xiaofei;Liu Shiyuan;Lv Wen;Edmund Y. Lam
