Sticking probabilities of Cu, Zn, Sn, and S atoms in magnetron sputtering plasmas employing a Cu2ZnSnS4 stoichiometric target
Sticking probabilities of Cu, Zn, Sn, and S atoms in magnetron sputtering plasmas employing a Cu2ZnSnS4 stoichiometric target
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使用 Cu2ZnSnS4 化学计量靶材的磁控溅射等离子体中 Cu、Zn、Sn 和 S 原子的粘附概率
DOI：
10.1016/j.vacuum.2015.07.019
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
K. Sasaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Nafarizal;S. Kikuchi;K. Sasaki
