K. Yonekura, T. Fujiyoshi, T. Sueyoshi, T. Doi, T. Nishikawa
K. Yonekura, T. Fujiyoshi, T. Sueyoshi, T. Doi, T. Nishikawa
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K.米仓、T.藤吉、T.末吉、T.土井、T.西川
DOI：
10.1016/j.physc.2011.05.144
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
1.7
通讯作者：
Flux pinning properties of MgB2 thin films on Al tape substrates deposited by electron beam evaporation
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Okita;Y. Hatanaka;A. Adachi;T. Sueyoshi;T. Fujiyoshi;佐藤昭,尾辻泰一;Flux pinning properties of MgB2 thin films on Al tape substrates deposited by electron beam evaporation
