Investigation of Plasma Paramclers in a VHF Plasma with Narrow Gapunder High Gaseous Pressure

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高气压下窄间隙甚高频等离子体中等离子体参数的研究

DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
Plasma Processes and Polymers 4(印刷中)
影响因子:
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通讯作者:
H. Takatsuka. Y. Kawai
H. Takatsuka. Y. Kawai
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H Muta;S;Kishida;M. Tanaka;Y. Yamauchi;T. Baba. Y. Takcuchi;H. Takatsuka. Y. Kawai

文献摘要

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