高密度イオン化PVD法によるAlTiNの残留応力制御とそのナノ積層化の効果
高密度イオン化PVD法によるAlTiNの残留応力制御とそのナノ積層化の効果
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高密度电离PVD法控制AlTiN残余应力及其纳米分层效应
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
楊明
中科院分区：
文献类型：
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作者：
清水徹英;高橋秀治;小宮英敏;寺西義一;楊明
