Reiner Schutz: "Si/SiGe/Si heterostructure growth without interface roughness at high Ge-mole fractions by low-temperature low-pressure chemical vapour deposition" Thin Solid Films. 222. 38-41 (1992)
Reiner Schutz: "Si/SiGe/Si heterostructure growth without interface roughness at high Ge-mole fractions by low-temperature low-pressure chemical vapour deposition" Thin Solid Films. 222. 38-41 (1992)
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Reiner Schutz：“通过低温低压化学气相沉积在高 Ge 摩尔分数下实现无界面粗糙度的 Si/SiGe/Si 异质结构生长”固体薄膜。
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