Atomic steps on Si{100} and step dynamics during sublimation studied by low-energy electron microscopy
Atomic steps on Si{100} and step dynamics during sublimation studied by low-energy electron microscopy
复制标题
用低能电子显微镜研究 Si{100} 上的原子阶跃和升华过程中的阶跃动力学
DOI：
10.1016/0039-6028(89)90670-5
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发表时间：
1989
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
W. Świeḩ
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Mundschau;E. Bauer;W. Telieps;W. Świeḩ
