磁場中PLD法によるBi_<1.1>(Fe_<0.9>Co_<0.1>)O_3薄膜の作製と評価
磁場中PLD法によるBi_<1.1>(Fe_<0.9>Co_<0.1>)O_3薄膜の作製と評価
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磁场中PLD法制备Bi_<1.1>(Fe_<0.9>Co_<0.1>)O_3薄膜及性能评价
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
奥山雅則
中科院分区：
文献类型：
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作者：
後藤田文也;朴正敏;中嶋誠二;金島岳;奥山雅則
