酸化グラフェンアシストシリコンエッチングにおける反応活性点
酸化グラフェンアシストシリコンエッチングにおける反応活性点
复制标题
氧化石墨烯辅助硅蚀刻中的反应活性位点
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
窪田 航
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Asuka Yamaguchi;Ippei Yamamoto;Yoshihiro Nakamura;Yumiko Harigane;Hanaya Okuda;村上友哉;窪田 航
