Kazuhiro ISHIMARU: "Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Nonequilibrium Pulsed Dielectric Barrier Discharge Plasma" Proceedings of 14th International Symposium on Plasma Chemistry(ISPC14). 14(発表予定). (1999)
Kazuhiro ISHIMARU: "Chemical Vapor Deposition of Silicon Oxide Films Using Nonequilibrium Pulsed Dielectric Barrier Discharge Plasma" Proceedings of 14th International Symposium on Plasma Chemistry(ISPC14). 14(発表予定). (1999)
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Kazuhiro ISHIMARU：“使用非平衡脉冲介电势垒放电等离子体的氧化硅薄膜的化学气相沉积”第 14 届国际等离子体化学研讨会论文集（ISPC14）（待发表）。
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