The technical challenges of the Solar-Orbiter EUI instrument
The technical challenges of the Solar-Orbiter EUI instrument
复制标题
Solar-Orbiter EUI 仪器的技术挑战
DOI：
10.1117/12.857976
复制
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Halain J
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Halain J
太阳轨道器上的极紫外成像仪由一套两台高分辨率成像仪和一台双波段全太阳成像仪组成，将提供光球层以上太阳大气层的极紫外和莱曼-α图像。EUI仪器基于一套具有挑战性的新技术，能够实现科学目标并科普太阳轨道器使命的恶劣空间环境。EUI仪器的机械概念基于支持HRI和FSI通道的通用结构以及单独的电子盒。散热挡板系统用于减少太阳热负荷，并提供第一保护级别以防止太阳能盘杂散光。光谱波段由薄滤光片和多层反射镜涂层选择。探测器为10μm间距背照式CMOS有源像素传感器（APS），最适合EUI科学要求和抗辐射性。本文介绍了EUI仪器的概念及其主要子系统。并对仪器技术的发展现状进行了总结。
The Extreme Ultraviolet Imager (EUI) onboard Solar Orbiter consists of a suite of two high-resolution imagers (HRI) and one dual-band full Sun imager (FSI) that will provide EUV and Lyman-α images of the solar atmospheric layers above the photosphere. The EUI instrument is based on a set of challenging new technologies allowing to reach the scientific objectives and to cope with the hard space environment of the Solar Orbiter mission. The mechanical concept of the EUI instrument is based on a common structure supporting the HRI and FSI channels, and a separated electronic box. A heat rejection baffle system is used to reduce the Sun heat load and provide a first protection level against the solar disk straylight. The spectral bands are selected by thin filters and multilayer mirror coatings. The detectors are 10μm pitch back illuminated CMOS Active Pixel Sensors (APS), best suited for the EUI science requirements and radiation hardness. This paper presents the EUI instrument concept and its major sub-systems. The current developments of the instrument technologies are also summarized.
太阳轨道飞行器用极紫外光谱仪
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Harrison;E. Sawyer
通讯作者：
E. Sawyer
太阳轨道飞行器：研究太阳磁性大气中小规模物理过程的独特机会
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
作者：
J. Vial
通讯作者：
J. Vial
用于太阳观测的新型紫外线探测器
DOI：
--
发表时间：
2003
期刊：
SPIE Astronomical Telescopes + Instrumentation
影响因子：
--
作者：
J. Hochedez;U. Schuehle;J. Pau;J. Alvarez;O. Hainaut;T. Appourchaux;F. D. Auret;A. Belsky;P. Bergonzo;M. Castex;A. Deneuville;P. Dhez;B. Fleck;K. Haenen;M. Idir;J. Kleider;É. Lefeuvre;P. Lemaire;E. Monroy;P. Muret;E. Muñoz;M. Nesladek;F. Omnès;E. Pace;A. Peacock;C. van Hoof
通讯作者：
C. van Hoof