Three-Dimensional Parameter Mapping of Annealing Processes for HBr/02-Plasna-Induced Damages in Si Substrates
Three-Dimensional Parameter Mapping of Annealing Processes for HBr/02-Plasna-Induced Damages in Si Substrates
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Si 衬底中 HBr/02 等离子损伤退火过程的三维参数映射
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kouicht Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Asahiko Matsuda;Yoshinori Nakakubo. Masanaga Fukasawa;Yoshinorl Takao;Tetsuya Tatumi;Koji Eriguchi;Kouicht Ono
