Fabrication of free-standing fullerene nanowire using direct electronbeam writing and sacrificial dry etching
Fabrication of free-standing fullerene nanowire using direct electronbeam writing and sacrificial dry etching
复制标题
使用直接电子束写入和牺牲干法蚀刻制造独立式富勒烯纳米线
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Tsuchiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
本田知己;宮島敏郎;岩井善郎;不破良雄;T. Tsuchiya
