A Critical Factor Determining the Sizes of Etched Latent Tracks in Silica Glass Formed by Swift Cl Ions
A Critical Factor Determining the Sizes of Etched Latent Tracks in Silica Glass Formed by Swift Cl Ions
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决定快速 Cl 离子形成的石英玻璃中蚀刻潜迹尺寸的关键因素
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Tetsuro Komatsubara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ken-ichi Nomura;Yoshimichi Ohki;Makoto Fujimaki;Xiaomin Wang;Koichi Awazu;and Tetsuro Komatsubara
