Molecular Dynamics Study of Resist Filling Process in UV-nanoimprint Lithography
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复制标题
紫外纳米压印光刻光刻胶填充过程的分子动力学研究
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tadashi Ando
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Uchida;Ryosuke Imoto;Takao Okabe;Jun Taniguchi;Tadashi Ando
