模拟践踏对中位泥炭藓叶绿素荧光特性的影响
模拟践踏对中位泥炭藓叶绿素荧光特性的影响
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DOI：
10.11931/guihaia.gxzw201903060
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
陈永达
中科院分区：
文献类型：
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作者：
范贝贝;卜兆君;刘超;胡雪凤;陈永达
该研究以采自长白山区月亮湾湿地开阔地的红型和林缘的黄绿型中位泥炭藓( Sphagnum magellanicum)为材料,室内模拟人为践踏,使用便携式调制叶绿素荧光仪,测定其叶绿素荧光参数,探讨了不同践踏强度、不同践踏轮次下,两类中位泥炭藓的荧光参数响应情况。结果表明:至第二轮践踏,红型中位泥炭藓的PSⅡ实际光量子产量[Y( Ⅱ) ]和相对电子传递速率( ETR)随践踏强度增大而减小,而黄绿型的践踏组均大于对照组;践踏结束时,红型的Y( Ⅱ)和ETR的践踏组均显著低于对照组,而黄绿型只有轻度践踏低于对照组;黄绿型泥炭藓践踏组的非调节性能量耗散量子产量[Y( NO) ]甚至要低于对照组。这表明尽管泥炭藓属植物能耐受一定的践踏胁迫,但随着践踏轮次增多、强度增大,胁迫累积效应将强烈抑制其生长;多见于开阔地的红型泥炭藓对人为践踏的耐受能力低于林缘生境的黄绿型泥炭藓。湿地保护与管理中,应减少游人践踏干扰,尤其要严格控制开阔地生境的游人进入。